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LPCVD直立式爐管
常壓化學氣相沉積爐 與 低壓化學氣相沉積爐
應用:
氧化製程
多晶製程
產品規格
深
(1900mm
)*
寬
(
900mm)*
高
(3180mm
)
Main body size
深
(800mm
)*
寬
(
900mm)*
高
(2900mm
)
UBOX
6
”
-
8
〞
-
12
〞
Si, 150mm /notch
Wafer Type
170 SOLTS
Boat
T
ype
EAP
連接支援
HSMS
,過程中實時監控,
遠端自動上下貨,
recipe
遠端編輯
Support SEC II/GEM
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